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还是原子弹难！EUV光刻机相对简单！

EUV光刻机确实很难，现在世界上也只有荷兰ASML公司能够制造出来这样的光刻机。但是对于我们来说，在EUV光刻机上已经有一些技术储备，现在可能只需要动用几个研究所加上大学加上光刻机厂家就足够了，可能短则两三年，长则五六年就能够获得突破，成功制造出来EUV光刻机。

原子弹显然是更难一些，原来我们搞原子弹的时候，面临着技术封锁以及物资等各方面的封锁，而且当时世界上也就是极少数国家有这个原子弹技术。但是当时的情况下，搞出来原子弹，就意味着国家拥有了威慑力量，就意味着没有人胆敢再去轻易惹你，于是在当时非常困难的条件下，我们开始举全国之力来搞原子弹，最终历经数年搞出来了原子弹，并且搞出来了氢弹，而且导弹技术也是获得了快速的突破，拥有了洲际弹道导弹技术，拥有了更强的威慑力量。显然在当时的条件下，搞出来原子弹是更难一些的。

现在对我们来说，想搞出来EUV光刻机可能也不算太困难的事情，我国工业体系非常完善，是全球拥有最完善制造业体系的国家。而且我国在历史上也有光刻机的研发，而且我国有几个研究所已经对EUV光刻机做了很多年的研究和技术储备，再加上我国上海微电子已经研制出来了28纳米光刻机，可能会在明年或者后年交货。

这款28纳米光刻机，应该是193nm duv，也就是采用了193nm光源的光刻机。而台积电前两年生产第一代7nm芯片是采用的使用的就是193nm光源的光刻机，而之前上海微电子生产的90nm光刻机使用的是365nm的光源，还有上海微电子最近10年的研发费用只有区区6亿元人民币，还没有一台光刻机的价格贵，这就能搞出来193纳米光源的DUV光刻机可能也算是非常牛了。

因此，从现在我国光刻机的研发情况来看，我们的差距可能并没有想象中那么大，也没有某些人说的那么大，而且对于我国非常有利的还有市场规模。根据海关统计，我国2019年半导体进口金额达到了3040亿美元，折合人民币达到了2.1万亿元的规模，这么大的规模，其中大部分都是能够采用国产193纳米DUV光刻机进行制造的。

在这样的情况下，我国EUV光刻机如果加大重视力度，开始集中人力物力提速研究开发，那么我国有可能很快就能够拥有EUV光刻机的技术，就能够在未来的几年内生产出来先进的EUV光刻机产品。

综上所述，原子弹更难，而EUV光刻机显然更简单一些，而且我们已经研发出来了193纳米的DUV光刻机，未来只要我们加大研发力度，更加重视，那么可能很快我们就能够拥有自己的EUV光刻机产品了。