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拖延策略！

ASML总裁称对中国出口光刻机保持开放态度，这个也就是一句话，当不成真的，阿斯麦总裁还是要听美国的，不会对中国出口EUV光刻机的。这样的话，听听就行了，就是一个拖延的策略而已。

现在我国在光刻机的发展上，已经在加倍努力研发更加先进的光刻机了，上海微电子公司28纳米DUV光刻机可能已经研发成功了，而且可能在最近一两年就可能进入生产线。

而28纳米DUV光刻机，如果采用先进的工艺手段，就有可能生产出来7纳米工艺的芯片。原来台积电攻克7纳米芯片制程的时候，就是用的28纳米DUV光刻机进行的大批量生产。

现在我国中芯国际在N+1工艺方面已经获得突破，基本上N+1工艺，相当于台积电的7纳米技术。现在中芯国际已经开始采用N+1技术进行流片实验了，未来一段时间，有可能中芯国际将能够采用7纳米工艺进行芯片量产。

这样来说，如果我国自研的28纳米DUV光刻机批量生产进入生产线，那么我国未来一两年，我国芯片生产厂商就能够生产出来7纳米工艺芯片了。

现在我国也在研发更先进的EUV光刻机。因为到了5纳米以下工艺阶段，只能够使用EUV光刻机进行生产。

而现在我国已经有好多研究机构在从事EUV光刻机的研发了，相信不远的将来，我国EUV光刻机就可能获得突破，那么未来我国芯片生产工艺可能将完全自主可控。

综上所述，现在阿斯麦总裁称对中国出口光刻机保持开放态度，这个也就是一句话，不能当真的，不会对中国出口急需的EUV光刻机的。而我们只有加强研发，搞出来自己的EUV，这样我们未来芯片工业可能才能够发展的更好，不再看别人的脸色。