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虽然顶尖的光刻机很难，但是我国只要加紧研制，相信很快也能够拥有我们自己的EUV光刻机的。现在来说，我们国家光刻机实际上也挺先进的，现在只是在EUV光刻机方面还没有达到荷兰ASML的水平。

近日，我国上海微电子已经宣布研发出来了28纳米光刻机，可能2021年将生产出来成品。这个28纳米光刻机一下子就让我国光刻机水平达到了世界第二先进的状态，可以说在全球范围内仅次于荷兰ASML公司了。现在来说，28纳米的光刻机足够生产出来我国军用和民用说需要的大部分芯片了。

原来，我们国家一直在光刻机方面进行着研究，但是由于更高精度的光刻机原来应用的范围比较窄，研发成本比较高，可能并没有下大力气去研究。现在我国华为在芯片设计领域已经取得了突破，成功推出了7纳米的麒麟990芯片，而且已经研发出了5纳米的麒麟1020芯片，但是却遭遇了芯片断供，这个就让我国EUV光刻机的研发一下子成为了关键。而在压力之下，相信我国科研院所只要是想干，拿出来搞两弹一星的精神，那么可能用不了多长时间我国的EUV光刻机就能够获得突破了。

从我国现在的研发情况来看，我国EUV光刻机的突破可能也就是迟早的事情。而现在我国华为等虽然面临着高端芯片的断供，但是华为也做了一些准备，不仅存了一些麒麟高端芯片，而且也已经准备订购联发科的芯片，这样华为可能就能够不仅顺利的渡过这一段芯片断供的时间。

综上所述，相信我国科研人员一定能够在比较短的时间内突破EUV光刻机的研发和制造，这样就能够让我国芯片生产能力上一个大台阶，就能够让我国在半导体领域内具备更强的竞争力了，也能够让我国芯片工业成为助推我国经济发展的强劲动力。