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题主问题的核心是光刻机的技术难点是什么？中国有没有可以早光刻机的企业？光刻机的难点总体来说的话，三个方面，第一个是精密度的问题，第二个是供应商的问题，因为我们知道光刻机中需要的零件高达3万个，第三个是需要高端人才，接下来我们会来详细说一下，而中国有没有可以制造光刻机的企业，这个答案是肯定的。我们下面来详细的说说这个问题：

我们都知道现在光刻机虽然有很多，但是荷兰的ASML公司占据了70%的市场，而日本和尼康和佳能虽然也可以制造，但是市场份额确实很少，比如在2017年全球晶圆制造用光刻机台出货294台，其中ASML就出货198台，占全球近7成的市场。其中EUV光刻机11台，ArFi光刻机76台，ArF光刻机14台，KrF光刻机71台，i-line光刻机26台，而佳能出货量为26，而佳能也只有70台。当然到了2018年依然是如此，虽然全年的出货量很大，达到了374台，但是从型号来说EUV、ArFi、ArF机型的出货来看，全年共出货134台。其中ASML出货120台，依然是占据了很大的市场。

为什么光刻机这么难于制造呢！

1.工艺。说实在的光刻机每个部件的工艺难度都很大，而现在瓶颈主要集中在透镜、掩膜版、光源、能量控制器。我们就拿光源来说，光刻机的光源目前主要有：激光，紫外光、深紫外光、极紫外光。现在最先进技术是极紫外光，而从光刻机的结构和工作原理来说，光源的重要性不言而喻。

我们知道在制造芯片时，首先需要在晶圆（硅晶片）表面涂光感胶，再用光线透过掩模版（相当于芯片电路图纸的底片）照射硅片表面，被光线照射到的光感胶会发生反应。此后用特定溶剂洗去被照射或者未被照射的胶，电路图就印到硅片上。

这个过需要用到的镜片，确实对于工艺的要求很高，镜片的高纯度透光材料+高质量抛光。而ASML的镜片是蔡司技术打底，镜片材质做到均匀，需几十年到上百年技术积淀。这也是为什么说佳能和尼康，我们一直认为他们是做相机的，但是现在为什么可以做光刻机的原因。因为光刻机跟照相机差不多，它的底片，是涂满光敏胶的硅片。当然这其中就有包括了刚才提到的地掩膜版，以及能量控制器。

2.供应商的问题和人才的问题。这个问题其实和我们文章开头说的一样，精密度和供应商是分不开的，我们刚才说的顶级镜片和光源其实是第一部，而第二部就是精密度的问题。光刻机里有两个同步运动的工件台，一个载底片，一个载胶片。两者需始终同步，误差在2纳米以下。而且对于环境要求也极为严格，比如温湿度和空气压力变化会影响对焦。“机器内部温度的变化要控制在千分之五度，得有合适的冷却方法，精准的测温传感器。”所以零件有一点误差都不行。

我们知道这样的误差精度，确实需要高精尖的人才才能做到，以及包括我们知道光刻机分为13个分系统，3万个机械件，200多个传感器，每一个都要稳定，而且就像我们刚辞说的温度湿度，以及对于2nm的误差这些要求，确实对于一般人来说是做不到的，所有这方面的人才奇缺也是重要的一个原因。

小结。光刻机的原理虽然看似简单，但是实际工艺所需要的部件要求很高，包括我们知道制造工艺方面对于技术以及误差，还有人才的要求等等，全方面来看的话，制造光科技的确实不容易。

如果说最厉害的就是当属上海微电子啦！成立于2002年的它，是中国第一也是唯一一个光刻机厂商。该企业所制造的光刻机主要集中于90nm及其以下的芯片工艺制造，不过我们知道现在手机芯片已经来到了EUV的7nm工艺，所以这个差距还是很远的。的

而中芯国际和华虹目前量产了14nm工艺制程的光刻机，但是目前来说还不是很稳定而且我们知道的是有《瓦森纳协定》的规定，虽然中国有向ASML订货7nm的光刻机，但是因为某些特定原因迟迟没有交货，所以我们目前也是止步于此。

光刻机的技术严格来说，确实算是高精尖的产业，而且我们知道ASML也是一家各个企业入股的公司，就是你如果想要我的光刻机那就要入股，所以才有了现在的成就，所以对于各个方面的要求都很高，而国内目前上海微电子的虽然很不错，但是工艺有差距，而中芯国际的14nm目前还趋于稳定，而7nm的工艺，这个确实是目前做不到的，所以也只能依赖进口，但是因为ASML，以及协议的一些规定，目前还没有交付。

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